方位的对比。

随后又在第三块板子上，罗列出石壁实验室步进式光刻机的预设参数。哪些问题已经解决了，哪些问题等待解决。

然后，问众人：“伙计们，dSw4800将主流制程从3微米推进到了1.5微米。尼康NSR-1010G更进一步，1.3微米将会走出实验室。

而且，我有可靠的消息，他们正在全力攻关，意图将缩小倍率从10比1调整为5比1。

知道那意味着什么吗？

一旦他们取得成功，主流制程大概率被推倒1微米，甚至是800纳米。

我可以告诉你们，我的团队，已经做好了基于800纳米制程的，集成了浮点运算单元的新设计。

现在，请你们明确的告诉我。还需要多长时间，我才能等到你们的成果？”